1）装挂要合理，最好四周有阴极屏蔽；若无屏蔽，在槽子两端要插入阴极屏蔽2）电流密度不要过大3）温度不要太低，选择适当温度，较高温度有助于提高电流密度上限4）搅拌要好，可以克服浓度极化5）阳极与阴极间的距离要适中，过近容易烧焦，过远设备利用率低且电阻增加6）合理使用添加剂，好的添加剂或合理的添加剂使用量，有助于提高电流密度上限7）镀液成分要在工艺范围，适当提高主盐浓度可以提高电流密度上限8）... ...多琢磨、多实践。
如何消除薄层边缘效应？
消除薄层边缘效应有如下两种方法：
1、屏蔽法。
比如POP电镀时尖角部位采用绝缘体遮挡。
2、阴极保护法。
比如镀硬铬零件的边缘部位采用铜丝消耗部分电流。
在色谱展开过程中，靠薄层边缘处斑点的Rf值与中心区域斑点的Rf值有所不同，此称为边缘效应。
平面色谱：
由于固定相可以通用，因此薄层色谱法与柱色谱法的基本分离机理相同，但两者的操作方式不同，部分概念和参数略有不同。
在平面色谱法中，同一块色谱板基线上不同位置点上同一种物质，而产生边缘比移值大于中间比移值的现象。
他是因为边缘的溶剂蒸发比中间的快，从而加速了边缘的溶剂迁移，让边缘比移值变大，他可以通过展开前的饱和来和点子距色谱板1cm来减小。
精密局部电镀遮蔽工艺有哪些
精密局部电镀遮蔽工艺有胶带遮蔽，硅胶遮蔽，光刻技术。
1、胶带遮蔽：使用胶带精确地覆盖需要被保护的区域，胶带具有粘性和柔韧性，可以有效地防止电镀液进入被保护的区域，2、硅胶遮蔽：使用硅胶或类似材料涂覆在需要保护的区域上，硅胶具有抗化学侵蚀的特性，可以有效地遮蔽电镀液，3、光刻技术：通过光刻胶及曝光、洗涤等步骤，在需要保护的区域形成光刻图案，然后使用光刻胶固化和去除的过程来形成遮蔽。
