精密局部电镀遮蔽工艺有哪些
精密局部电镀遮蔽工艺有胶带遮蔽，硅胶遮蔽，光刻技术。
1、胶带遮蔽：使用胶带精确地覆盖需要被保护的区域，胶带具有粘性和柔韧性，可以有效地防止电镀液进入被保护的区域，2、硅胶遮蔽：使用硅胶或类似材料涂覆在需要保护的区域上，硅胶具有抗化学侵蚀的特性，可以有效地遮蔽电镀液，3、光刻技术：通过光刻胶及曝光、洗涤等步骤，在需要保护的区域形成光刻图案，然后使用光刻胶固化和去除的过程来形成遮蔽。
软接铜排怎么遮蔽电镀
具体方法如下：1、使用绝缘材料：在软接铜排上涂上绝缘材料，如绝缘漆、绝缘胶带或绝缘套管。
这些材料可以有效地遮蔽电镀层，阻止电流的流动。
2、使用屏蔽材料：在软接铜排上覆盖屏蔽材料，如金属箔或屏蔽涂层。
屏蔽材料可以有效地阻挡外部电磁干扰，同时遮蔽电镀层。
3、砂纸磨除电镀层：使用细砂纸或砂布轻轻磨除软接铜排的电镀层。
这样做可以将电镀层暴露在外，而不会影响其连接性能。
