台积电美国工厂试产良率赶超台湾本厂。
周五，据彭博社援引知情人士消息，台积电美国分部总裁Rick Cassidy于周三透露， 台积电亚利桑那工厂的试产良率已超出其中国台湾同级厂房约4个百分点。
良率指生产芯片中合格产品的比例，是半导体行业的关键衡量标准之一。一般来说，良率越高，生产率越高。
在上周的财报电话会上，台积电董事长魏哲家曾表示：
根据规划，台积电将在美国亚利桑那州凤凰城建设三座晶圆厂，其中晶圆一厂（Fab21）是4nm制程晶圆厂，晶圆二厂则是3nm晶圆厂，三厂则预计在本世纪20年代底（2029-2030年）采用2nm或更先进的制程技术进行生产。
目前，魏哲家对美国工厂前景持乐观态度，他在上周的电话会上表示：
